Bei Raum temperatur ist Kohlenstofftetrafluorid-CF4-Gas ein farbloses, geruchloses, nicht brennbares kom press ibles Gas mit hoher Flüchtigkeit. Es ist eine der stabilsten organischen Verbindungen. Bei 900 ° C reagiert es nicht mit Kupfer, Nickel, Wolfram und Molybdän, sondern zersetzt sich bei Kohlenstoff lichtbogen temperatur nur langsam. Es ist in Wasser leicht löslich und seine Löslichkeit beträgt 0,0015% (Gewichts verhältnis) bei 25 ° C und 0,1 MPa. Wenn es jedoch mit brennbaren Gasen brennt, zersetzt es sich unter Bildung giftiger Fluoride.
Kohlenstofftetra fluorid CF4-Gas ist derzeit das am häufigsten verwendete Plasma kerzen gravur gas in der Mikro elektronik industrie. Sein hochreines Gas und eine Mischung aus hochreinem Tetra fluorid kohlenstoff gas und hochreinem positivem Sauerstoff können in der Kerzen gravur von Silizium, Silizium dioxid, Silizium nitrid weit verbreitet sein, phosphor-Silizium-Glas und Wolfram-Dünnschicht-Materialien.
Es ist auch weit verbreitet in der Oberflächen reinigung elektronischer Geräte, Solarzellen produktion, Laser technologie, Gasphase isolierung, Niedertemperatur-Kühlung, Lecks uch mittel, Kontrolle der Raumraketen lage und Dekontamination bei der Herstellung von Leiterplatten.
Das Unternehmen engagiert sich für das Layout der gesamten Kette der fluor chemischen Industrie und beschäftigt sich haupt sächlich mit der Forschung, Entwicklung, Produktion und dem Vertrieb von chemischen Grundstoffen. fluor haltige elektronische Gase, Halbleiter-Hochreine Reagenzien, neue Energie materialien und andere Serien von fluor haltigen neuen Materialien. Die Produkte sind weit verbreitet in Halbleiter chips, LED-Chips, Flach bildschirmen, optischen Kommunikation fasern, Energie-und Energie speicher batterien, Ultra hochspannung übertragung und-transformation, photo volta ische Stromer zeugung, etc.
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